ip/01/1521
Brussel, 30 oktober 2001
Commissie keurt Nederlandse subsidie van 109 miljoen EUR goed voor
twee lithografieprojecten, FLUOR en EXTATIC genaamd
De Europese Commissie heeft besloten het voornemen goed te keuren van de Nederlandse regering om aanzienlijke subsidies te verlenen aan ASML, een Nederlandse lithografieonderneming, voor de twee projecten EXTATIC en FLUOR. Lithografie betreft dat gedeelte van de chipsproductie waarbij ultrafijne elektronische elementen worden gecreëerd door de belichting van lichtstraalgevoelige materialen. De Commissie heeft vastgesteld dat de projecten voldeden aan de voorwaarden die zijn neergelegd in de specifieke communautaire kaderregeling inzake staatssteun voor onderzoek en ontwikkeling.
De doelstelling van het EXTATIC-project is de bestudering van de
systeemaspecten van de extreem ultraviolet (EUV) lithografie en aan te
tonen dat EUV-lithografie bij uitstek geschikt is voor de toekomstige
productie van geïntegreerde circuits. De doelstelling van het
FLUOR-project is onderzoek naar de toepassing van de zogenaamde 157
nanometerlithografie. Deze soort lithografie wordt als een belangrijke
intermediaire technologie beschouwd tussen de huidige 193
nanometertechnologie, die binnen vier tot zes jaar verouderd zal zijn,
en de toekomstige EUV-technologieën, die na 2010 hun intrede zullen
doen.
De voorgenomen steun voor het project loopt tot eind 2004. De
subsidies bedragen 54,5 miljoen EUR (120 miljoen NLG) per project. De
totale kosten van de twee projecten belopen 464,7 miljoen EUR. De
projecten worden gefinancierd via de Nederlandse bijdrage aan het
MEDEA+-programma dat door de Commissie in februari 2001 werd
goedgekeurd. Aangezien de totale kosten voor elk van beide projecten
boven de 40 miljoen EUR liggen en het steunequivalent hoger is dan 10
miljoen EUR elk, heeft de Commissie voor elk van deze projecten een
afzonderlijke beslissing genomen.
MEDEA+ is een door de industrie geïnitieerd pan-Europees programma
voor geavanceerde onderzoek en ontwikkeling op het gebied van de
micro-elektronica. Het maakt deel uit van het kaderprogramma EUREKA.
De MEDEA+-technologieprojecten maken de weg vrij voor een wereldwijde
geavanceerde micro-elektronica. De betrokken lithografieprojecten
betreffen een groot segment van de informatietechnologiemarkt en
zullen de grondslag helpen leggen voor de ontwikkeling van de
informatie- en communicatiespitstechnologie in Europa.
De mogelijke "spillover"-effecten van deze projecten zijn aanzienlijk.
Het concurrentievermogen van andere industriesectoren zal naar alle
waarschijnlijkheid, tenminste indirect, worden versterkt door de
vooruitgang die wordt geboekt op dit belangrijk gebied van de
informatietechnologie. De Commissie acht het onwaarschijnlijk dat de
projecten zonder steunverlening even snel en in dezelfde ambitieuze
opzet zouden kunnen worden uitgevoerd.
De projecten behelzen grote technologische en financiële risico's. De
Commissie is derhalve van oordeel dat de steun een duidelijk
stimulerend effect heeft.
De projecten zijn specifiek opgezet als internationale projecten.
ASML, die gevestigd is in Veldhoven, zal samenwerken met meer dan 10
andere Europese ondernemingen en verschillende onderzoekinstellingen
uit Frankrijk, België en Duitsland. De resultaten van de projecten
zullen ruim worden verspreid in de EU.
Bovendien zijn de projecten in overeenstemming met het vijfde
kaderprogramma van de EU voor onderzoek, en meer specifiek het
programma op het gebied van de technologie voor de
informatiemaatschappij (IST).