CHIPP-premie voor onderzoek naar het effect van EUV-licht op nieuwe ..
31 maart 2015
De hoogleraren Andries Meijerink (Universiteit Utrecht), Lucas Visscher (Vrije Universiteit) en Andre ten Elshof (Universiteit Twente) ontvangen 1,7 miljoen voor de ontwikkeling van nieuwe materialen die gevoelig zijn voor extreem ultraviolette straling. Zij werken samen met ASML Netherlands
B.V. dat de helft van het programma financiert. De andere helft wordt vanuit het Fonds Nieuwe Chemische Innovaties van NWO Chemische Wetenschappen gefinancierd.
In de wereld van lithografie vindt een ontwikkeling plaats richting het gebruik van extreem kortgolvige ultraviolette (EUV) straling om patronen te "schrijven" bij de productie van chips. De onderzoekers gaan samen met ASML, drie promovendi en drie postdocs fotogevoelige materialen onderzoeken
samengesteld uit anorganische nanodeeltjes. Het experimentele en theoretische onderzoek richt zich op de eigenschappen van deze materialen onder invloed van EUV straling, op de primaire processen die optreden en op het vastleggen van de grootte van de kleinste mogelijke patronen die met deze
materialen te realiseren zijn.
Over CHIPP
CHIPP staat voor "Chemical Industrial Partnership Programme" en is een van de publiek-private samenwerkingsvormen van het Fonds Nieuwe Chemische Innovaties (NCI). CHIPP-subsidies zijn bedoeld voor samenwerkingsprojecten van een bedrijf met minimaal twee kennisinstellingen. Het bedrijf neemt
50% van de kosten (in cash) voor zijn rekening, NWO bekostigt de andere helft. De minimale omvang voor een CHIPP is MEUR 1,5 wanneer wordt samengewerkt met een groot bedrijf en kEUR 160 in het geval dit een MKB is. Onderwerpen over de volle breedte van de chemie komen voor financiering in
aanmerking.
Bron: NWO